在半導體工藝制程中，需要使用多種特殊氣體、大量的酸、堿等化學品以及有機溶劑和揮發性液體，這些氣體和化學品在半導體制造的不同工藝中使用會產生廢氣，這些廢氣如果沒有經過廢氣處理設備很好的處理便進行排放，將造成嚴重的問題，不僅影響人們的身體健康，惡化大氣環境，造成環境污染的公害事件等，也會成為半導體制造中AMC污染的重要來源。半導體制程工藝中產生的廢氣類別大概有：一般氣體廢氣、含毒性物質的廢氣、有機廢氣和含有酸性/堿性物質的廢氣。對于含有酸性/堿性物質的廢氣，半導體廠大多采用大型洗滌式中央廢氣處理系統進行處理。但由于半導體制造工作區域離中央廢氣處理系統距離較遠，因此部分酸性/堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統前，常因氣體特性導致在管道中結晶或粉塵堆積，造成管道堵塞后導致氣體外泄，嚴重者甚至引發爆炸，危害現場工作人員的工作安全。所以，在工作區域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設備進行就地處理，之后在排入中央處理系統，從而避免事故的發生，這就是為什么應就地配置廢氣處理設備的原因。